另外,当湿度过高时,粘在硅芯片表面的灰尘会被化学吸附在表面,难以清理。相对湿度越高,去除附着越困难。而当相对湿度低于30%时,由于静电力的作用,颗粒容易吸附在表面,大量半导体器件容易击穿。
净化工程压力调节
对于大多数洁净空间来说,要保持内压(静压)高于外压(静压),以防止外部污染的侵入。压差一般应按照以下原则维持:
这是对乱流洁净室的比紊流、更地描述。湍流度主要由雷诺数决定,即流的量决定。然而,如果使用的过滤器作为自上而下的空气供应,所有这些结果的可以产生即使在非常低的流量,因为它是一个突然和不均匀的流动。因此,在这种情况下,不仅存在紊流引起的流层之间的混合,整个腔室内还存在较大的回流和涡流混合。
净化工程-单向流动洁净室原理
那么如果你采用一个有效或有效的方式的话,我觉得这个结果是很容易实现。把整个空间范围之内的污染物去排除掉,这也是一个主要。
除此之外净化工程还应该挑战一下这个温度,以及噪音等一些无形的污染,这些都行,都是要完成的工作。净化在一定的程度之内,把空气里面的微粒子有害的细菌气体全部都给清除掉,并且把空气压力的速度都控制在某一个范围之内的工程学科。