x射线发生装置的构成
1、高稳定度X射线源提供测量所需的X射线，改变管阳极靶材质可改变波长，调节阳极电压可控制X射线源的强度。
2、样品及样品位置取向的调整机构系统样品须是单晶、粉末、多晶或微晶的固体块。
3、射线检测器检测衍射强度或同时检测衍射方向，通过仪器测量记录系统或计算机处理系统可以得到多晶衍射图谱数据。
4、衍射图的处理分析系统，现代X射线衍射仪都附带安装有衍射图处理分析软件的计算机系统，它们的特点是自动化和智能化。
x射线发生装置的应用
1、金属，铸造厂、冶炼厂和钢厂还有金属行业的其他方面都是连续生产并要求日夜控制生产和进料出料的质量。合金的化学含量，残余应力是与结构失效相关的重要特征。具有的空间分辨率和测量硬化材料的能力提供了非接触式测量。
2、涂层，现代生活的每个环节都得益于涂层或薄膜技术。无论是集成电路芯片上的阻挡层薄膜还是铝制饮料罐上的涂层，X射线是研发，产品过程控制和质量不可缺少的分析技术。
x射线发生装置角度校准的光学新方法
目前x射线发生装置的角度检定和校准测试主要依据JJG 629—1989《多晶X射线衍射仪检定规程》和JB/T 9400—2010《X射线衍射仪技术条件》等技术文件,具体方法是采用光学经纬仪或多面棱体等进行测试,该测量方法实际应用中存在一定难度,其次测量间隔较大,不能很好反映真实的角度误差规律.为此,提出了利用θ角和2θ角同轴并可独立运动的特点,组合采用光电自准直仪和小角度激光干涉仪等仪器,设计了一种新的XRD的角度校准方法,它能够自动快速地连续测量角度,取k=2时,扩展不确定度约1.2″.使用该方法测试能够得到θ和2θ轴的误差数据,可用于修正XRD测角误差,提高XRD测试精度.该方法也适用于同步辐射等大型衍射系统等其他需要角度校准的情况.
x射线发生装置-涂层应用
现代生活的每个环节都得益于涂层或薄膜技术。无论是集成电路芯片上的阻挡层薄膜还是铝制饮料罐上的涂层，X射线是研发，产品过程控制和不可缺少的分析技术。作为纳米技术研究，X射线衍射(XRD)和附属技术被用于确定薄膜分子结构的性质。理学的技术和经验为涂层和薄膜测量提供各种无损分析解决方案。