净化工程洁净室温湿度控制净化工程洁净空间的温度和湿度主要是根据工艺要求来确定的，但在满足工艺要求的条件下，也要考虑到舒适度。随着空气洁净度要求的提高，对温度和湿度的要求也有越来越严格的趋势。具体工艺对温度的要求后面会列出，但作为一般原理，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如，在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，玻璃与作为掩模材料的硅片之间的热膨胀系数差要求越来越小。
硅片直径为100um，温升1度，上升0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，湿度也要求值一般较低，因为人在出汗，产品会有污染，特别怕大半导体车间，车间温度不应超过25度，湿度高的问题较多。当相对湿度超过55％时，冷却水管壁会结露，如果在精密设备或电路中发生，会引起各种事故。当相对湿度为50％时，容易生锈。
1.洁净空间压力高于不洁净空间压力。
2.洁净度高的空间压力高于相邻的洁净度低的空间压力。
保持压力差的方法是用新风量来补偿在压力差下通过间隙排出的空气量。因此，压差的物理意义是对通过洁净室各种间隙的泄漏（或渗透）风量的阻力。
净化工程洁净室的气流速度
这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度，其他洁净空间的气流速度将在具体设备的讨论中进行说明。
那么如果你采用一个有效或有效的方式的话，我觉得这个结果是很容易实现。把整个空间范围之内的污染物去排除掉，这也是一个主要。
除此之外净化工程还应该挑战一下这个温度，以及噪音等一些无形的污染，这些都行，都是要完成的工作。净化在一定的程度之内，把空气里面的微粒子有害的细菌气体全部都给清除掉，并且把空气压力的速度都控制在某一个范围之内的工程学科。