在自主动钢网清洗机的试运转期间，无重要部件的损坏（人为缘由除外）部件包含：电磁阀，电机，表面，过滤芯等普通来说验收的大致流程就如上所述，这里把判别的办法描绘出来，供各位参考。操作区上的表面和数字分明，无伤痕。接纳到的设备，能够满足速度、质量等合同请求（十分规缘由除外）。机器设备能正常运转，运转安稳牢靠，无异常响动，能病持续性运转一星期全主动钢网清洗机能持续病工作，机器设备整体性美观大方，规划合理，机器设备各部件无漏液等现象。
全自动钢网清洗机是一种柜型立式的清洗机，不锈钢外观精巧大方，能够清洗带有锡膏或者红胶的网版（铜版），并且不会对钢网形成清洗上的损伤。由于自动网版清洗机运用的清洗机技术是超声波清洗。
此外，还加装了喷淋安装，在超声波和喷淋系统的双重作用下，能够十分有效的将网版上的锡膏高压冲洗洁净，并且还会自动枯燥，不会在网版上留下水渍痕迹，运用洁白无瑕的清洁布悄悄往网版上一擦，也不看见白布上有残留物或者灰尘，这也能够阐明，清洗机的清洗效果是值得我们信任的！
半导体清洗设备公司提供湿法设备，包含湿法槽式清洗设备及湿法单片式清洗设备，主要应用于集成电路、微机电系统、平板显示等领域。随着半导体芯片工艺技术的发展，工艺技术节点进入 28 纳米、14 纳米等更先进等级，随着工艺流程的延长且越趋复杂，每个晶片在整个制造过程中需要甚至超过 200 道清洗步骤，晶圆清洗变得更加复杂、重要及富有挑战性；清洗设备及工艺也必须推陈出新，使用新的物理和化学原理，在满足使用者的工艺需求条件下，兼顾降低晶圆清洗成本和环境保护。
根据清洗介质的不同，目前半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线。湿法清洗是针对不同的工艺需求，采用特定的化学药液和去离子水，对晶圆表面进行无损伤清洗，以去除晶圆制造过程中的颗粒、自然氧化层、有机物、金属污染、牺牲层、抛光残留物等物质，可同时采用超声波、加热、真空等辅助技术手段；干法清洗是指不使用化学溶剂的清洗技术，主要包括等离子清洗、超临界气相清洗、束流清洗等技术。