1分钟前 萝岗手机套曝光显影加工生产服务周到「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容：制造微处理器：曝光显影工艺是制造微处理器的主要工艺之一，通过在芯片表面制造出各种不同的电路和器件，实现芯片的功能。制造半导体器件：各种半导体器件，如二极管、金属氧化物场效应管(MOSFET)等都需要采用曝光显影技术制造。制造集成电路(IC)：IC制造的是以晶圆为基础的强制作用，而在此过程中曝光显影技术则是非常关键的一步。
用负显影工艺可以实现较窄的沟槽，负显影工艺已经被广泛用于20纳米及以下技术节点的量产中显影工艺一般步骤如下：图2 显影工艺步骤1.预喷淋（pre-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，显影液表面停留（puddle）：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
将显影液涂覆在曝光后的晶圆表面上，正胶的曝光区域和负胶的非曝光区域溶于显影液中，进一步将反应聚合物和显影液残留冲洗后，就可以显现出光刻胶中的图形，曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。综上可推出3D玻璃曝光显影技术是PET贴膜工艺的一种补充，目前应用范围局限于机型，后续技术的突破另当别论。
蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序，曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上，曝光显影是一种摄影技术，其过程包括两个步骤：曝光和显影。在曝光过程中，光线照射到感光材料上，使材料中的纹理或颜色发生变化。在显影过程中，通过将已曝光的感光材料转移到显影剂中，然后在定影剂中处理，产生可见的图像。
