曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、同时曝光影响图案的线宽,过量曝光会使图形线条变细,蚀刻产品线条变粗。所以好的办法是依据显影的干膜光亮程度,图像清晰度,图案线条与底片相符,曝光设备参数和感光性能,确定适合的曝光时间。
3D曲面玻璃的曝光显影技术的优势在于:在玻璃表面有极高的解像力,利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点,采用曝光显影技术,遮蔽油墨可控良率可达90%以上。3D玻璃显影曝光技术在HW mateRs用到了此技术,该后盖3D玻璃8曲面,弧面曲率大,
设计八曲面玻璃主要是为了满足如下两点需求:
1:为压缩整机厚度,后盖弧度大可增加架构空间,另未来5G的发展,器件增加,空间需加大;
显影液去除并且清洗(rinse):达到显影时间后,使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止,而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中,晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。