曝光后的干膜有些需要放置10~15min后才能显影,这必须根据实际情况,根据干膜的要求执行。
利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应,
曝光显影技术优势
1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题;
2、图形转印技术单层、多层套印精度高;
3、雾化喷涂确保厚度均一性,提高致密性,降低油墨厚度;
4、采用图形转印技术,良率较高;
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显;
6、较薄的油墨利于贴合,提高制程整体良率;
曝光后的干膜有些需要放置10~15min后才能显影,这必须根据实际情况,根据干膜的要求执行。
利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应,
曝光显影技术优势
1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题;
2、图形转印技术单层、多层套印精度高;
3、雾化喷涂确保厚度均一性,提高致密性,降低油墨厚度;
4、采用图形转印技术,良率较高;
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显;
6、较薄的油墨利于贴合,提高制程整体良率;