底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以,底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境,采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。
除此以外,曝光机的真空系统和真空曝光框架材料的选择,也影响曝光成像的质量。
显影时,通过感光鼓和显影辊之间的电场作用,碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以,底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境,采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。
除此以外,曝光机的真空系统和真空曝光框架材料的选择,也影响曝光成像的质量。
显影时,通过感光鼓和显影辊之间的电场作用,碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。