派瑞林涂层是化学气相沉积法，是反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。
紫外线照射的薄膜与未曝光的薄膜之间的故障时间之间的巨大差异为聚对二C和N的正确使用条件提供了重要的认识。聚对二D，C，N，AF4的化学结构定义了由于紫外线引起的降解接触。聚对二N是未取代的烃分子，聚对二C每个重复单元具有一个加氯基，聚对二D每个重复单元具有两个加氯基。相比之下，聚对二AF4用氟原子取代了化学品苯环上的氢原子，从而大大增强了其紫外线稳定性。
真空镀膜是一种由物理方法造成塑料薄膜原材料的技术性，在真空泵房间内原材料的分子从加温源混凝土离析出去打进被镀物件的表层上。该项技术性用以生产制造光学激光镜片，如远洋航行望远镜镜片等；后拓宽到别的作用塑料薄膜，游戏设备镀铝膜、装饰设计镀膜和原材料表层改性材料等，纳米镀膜生产商，如腕表机壳镀仿金黄，机械设备数控刀片镀膜，更改生产加工红强制。真空镀膜有三种方式，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。真空镀膜的作用是各个方面的，这也决策了其运用场所比较丰富。整体而言，真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表层高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。
真空镀膜技术性被称作发展前景的关键技术性之一， 镀膜企业并已在高新技术产业发展的发展趋势中展示出的行业前景。
Parylene真空镀膜是利用的真空化学气相沉积CVD(ChemicalVaporDeition)的方式，将Parylene原料为150℃中气化，再经650℃中进行裂解，而成为活性单体，在室温真空舱体里由活性单体小分子在基材表面结晶成一层包覆性的聚合物薄膜层，可以于各种形状物体表面均匀形成薄膜，薄膜厚度可由1μm~50μm，膜厚均匀、质轻无、透明无应力、高绝缘性及披覆性、耐溶剂、抗酸碱、防锈，是当代LED灯具产业IP规范、防尘、防水、防潮较佳伙伴。
Parylene真空镀膜有别于一般喷涂、灌胶，真空镀膜利用气相沉积镀膜方式不受视线阻碍，需镀膜的产品，其所有的表面皆会被活性单体紧密覆盖镀膜，而达到精细均匀、高质量的镀膜表层，而且易于维修，产品回收使用性高，减少灌胶人力成本。
原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。
目前可以沉积的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金属，碳化物，复合结构，硫化物，纳米薄层等。 中空纳米管，隧道势垒层，光电电池性能的提高，纳米孔道尺寸的控制，高高宽比纳米图形，微机电系统（MEMS）的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层，纳米晶体，ZnSe涂层，纳米结构，中空纳米碗，存储硅点涂层，纳米颗粒的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米线的涂层。