镀的基本原理：在真空条件下，金属、金属合金等被蒸发蒸发，然后沉积到基体表面，蒸发法通常采用电阻加热，电子束轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积到基体表面。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。
真空镀膜目的是希望减少光的反射，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的真空镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。
真空镀膜是应用物理分析化学方法，提高产品质量、提高产品使用期限。根据效果和基础表层的化学变化，在基础上制作金属材料和化学物质塑料薄膜的方式。真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。
真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，供优异的电磁屏蔽和导电效果。真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。
真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，广泛应用于汽车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟等领域。
真空镀膜有三种方式，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜。在镀膜方式上，比较普遍的是采用蒸发镀或者磁控溅射镀或者离子镀。